【新南瀛記者黃鐘毅報導】統懋半導體公司新市廠因造成土壤及地下水之含氯有機污染物、氟鹽超過管制標準，107年間被公告為污染整治場址，在台南市環保局嚴格監督下，已於112年6月完成污染改善且經驗證合格，環境部113年1月15日公告解除列管。
南市環保局為釐清工業區地下水污染整治責任，105年辦理新市工業區土壤及地下水污染調查，發現土壤及地下水受有機溶劑污染，依規定於107年3月28日公告為土壤及地下水污染控制場址。歷經相關調查及應變必要措施，環管署同年8月15日公告為土壤及地下水污染整治場址，並處污染行為人統懋半導體公司15萬元罰鍰。
環保局長許仁澤表示，除要求該公司提出整治計畫進行改善，整治期間定期邀集專家學者召開會議，督促行為人戮力改善及預防二次污染。該公司為顯企業責任，原核定5年之改善期程，在環保局嚴格監督，於112年6月完成污染改善工作，花費整治金額達2千6百萬元，
許仁澤說，該局於112年10月進場驗證，結果顯示土壤及地下水污染物濃度已低於管制標準，且經環保署同意解除土壤及地下水污染整治場址列管，完成土地活化面積約2萬平方公尺。
許仁澤表示，工業區的存在可帶動區域經濟的發展、增加就業機會，但密集的產業聚落使得污染潛勢增加；除政府機關主動調查與積極監督外，工業區亦應辦理土壤及地下水品質監測，建立預警機制，確保工業土地永續利用，共同維護環境品質與民眾健康。
全站熱搜
留言列表
